制药设备使用牵涉品种、换批，且很频繁，为避免物料的交叉污染与成分发生反应，清除设备内外部的粉尘、清洗粘附物等操纵与检查是*的，且要求极为严格。GMP要求设备外形整洁就是为达到易*清洁而规定。

1、夸大对整体结构与形体的简化，这是对设备整体及必须暴露的局部（也包括某些直观可见的零件）来讲的。在GMP观点下进行形体的简化，可使设备常规设计中的凹凸、槽、台变得平整简洁，可zui大限度地减少躲尘、积污，易于清洗；

2、对与生产操纵无直接关系的机构，应尽可能设计内置、内躲式。如传动等部分设计成内置式；

3、与药物接触部分的构件，均应具有不附着物料的低粗糙度值的表面。抛光处理是有效的工艺手段。抛光的物件主要是不锈钢板材、铸件、焊件等，且抛光的外部轮廓应力求简洁、抛光到位；

4、包覆式结构是制药设备中zui多见的，也是简便的手段。将复杂的机体、本体、管线、装置用板材包覆起来密闭，以达到简洁的目的；

5、润滑是机械运动所必须的，在制药设备中有相当一部分属台面运动方式。动杆动轴集中、结构复杂，又都与药品生产有关，且设备还有清洗的特定要求。无论何种情况下润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触，包括掉进、渗透等的可能性。
  
   解决措施大致有两种：①采用对药物的阻隔；②对润滑部分的阻隔，以保证在润滑、清洗中的油品、清洗水不与药物原料、中间体、药品成分相接触。