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制药设备在外观结构方面的污染防控手段
点击次数:1952 更新时间:2022-07-15 返回

   制药设备使用牵涉品种、换批,且很频繁,为避免物料的交叉污染与成分发生反应,清除设备内外部的粉尘、清洗粘附物等操纵与检查是*的,且要求极为严格。GMP要求设备外形整洁就是为达到易*清洁而规定。

1、夸大对整体结构与形体的简化,这是对设备整体及必须暴露的局部(也包括某些直观可见的零件)来讲的。在GMP观点下进行形体的简化,可使设备常规设计中的凹凸、槽、台变得平整简洁,可zui大限度地减少躲尘、积污,易于清洗;

2、对与生产操纵无直接关系的机构,应尽可能设计内置、内躲式。如传动等部分设计成内置式;

3、与药物接触部分的构件,均应具有不附着物料的低粗糙度值的表面。抛光处理是有效的工艺手段。抛光的物件主要是不锈钢板材、铸件、焊件等,且抛光的外部轮廓应力求简洁、抛光到位;

4、包覆式结构是制药设备中zui多见的,也是简便的手段。将复杂的机体、本体、管线、装置用板材包覆起来密闭,以达到简洁的目的;

5、润滑是机械运动所必须的,在制药设备中有相当一部分属台面运动方式。动杆动轴集中、结构复杂,又都与药品生产有关,且设备还有清洗的特定要求。无论何种情况下润滑剂、清洗剂都不得与药物相接触,包括掉进、渗透等的可能性。
  
   解决措施大致有两种:①采用对药物的阻隔;②对润滑部分的阻隔,以保证在润滑、清洗中的油品、清洗水不与药物原料、中间体、药品成分相接触。

 

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